| 200keV He离子在钨中产生的缺陷研究(英文) | |
| 其他题名 | HELIUM DECORATION OF VACANCY-TYPE DEFECTS IN TUNGSTEN INDUCED BY 200 KeV HE-IONS |
崔明焕; Wang Zhiguang; Pang Lilong; Shen Tielong; Yao Cunfeng; Li Bingsheng; Li Jinyu; Cao Xingzhong ; Zhang Peng; Sun Jianrong; Zhu Yabin; Li Yuanfei; Sheng Yanbin
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| 2012 | |
| 发表期刊 | IMP & HIRFL Annual Report |
| 期号 | 0页码:97 |
| 摘要 | Tungsten(W)has been selected as one of the potential candidate materials to cover some parts of the divertor in the future International Thermonuclear Experimental Reactor(ITER).The formation and accumulation of defects in tungsten induced by He is of great importance.In this work,high pure polyc... |
| 关键词 | 缺陷研究:8315 离子:5553 |
| 收录类别 | SCI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | https://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222948 |
| 专题 | 多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 崔明焕,Wang Zhiguang,Pang Lilong,等. 200keV He离子在钨中产生的缺陷研究(英文)[J]. IMP & HIRFL Annual Report,2012(0):97. |
| APA | 崔明焕.,Wang Zhiguang.,Pang Lilong.,Shen Tielong.,Yao Cunfeng.,...&Sheng Yanbin.(2012).200keV He离子在钨中产生的缺陷研究(英文).IMP & HIRFL Annual Report(0),97. |
| MLA | 崔明焕,et al."200keV He离子在钨中产生的缺陷研究(英文)".IMP & HIRFL Annual Report .0(2012):97. |
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