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200keV He离子在钨中产生的缺陷研究(英文)
其他题名HELIUM DECORATION OF VACANCY-TYPE DEFECTS IN TUNGSTEN INDUCED BY 200 KeV HE-IONS
崔明焕; Wang Zhiguang; Pang Lilong; Shen Tielong; Yao Cunfeng; Li Bingsheng; Li Jinyu; Cao Xingzhong; Zhang Peng; Sun Jianrong; Zhu Yabin; Li Yuanfei; Sheng Yanbin
2012
发表期刊IMP & HIRFL Annual Report
期号0页码:97
摘要Tungsten(W)has been selected as one of the potential candidate materials to cover some parts of the divertor in the future International Thermonuclear Experimental Reactor(ITER).The formation and accumulation of defects in tungsten induced by He is of great importance.In this work,high pure polyc...
关键词缺陷研究:8315 离子:5553
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222948
专题多学科研究中心
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GB/T 7714
崔明焕,Wang Zhiguang,Pang Lilong,等. 200keV He离子在钨中产生的缺陷研究(英文)[J]. IMP & HIRFL Annual Report,2012(0):97.
APA 崔明焕.,Wang Zhiguang.,Pang Lilong.,Shen Tielong.,Yao Cunfeng.,...&Sheng Yanbin.(2012).200keV He离子在钨中产生的缺陷研究(英文).IMP & HIRFL Annual Report(0),97.
MLA 崔明焕,et al."200keV He离子在钨中产生的缺陷研究(英文)".IMP & HIRFL Annual Report .0(2012):97.
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