| 高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究 |
其他题名 | MICROSTRUCTURESOF THE MICRO-CRYSTALLINE SILICON THIN FILMS PREPARED BY HOT WIRE CHEMICAL DEPOSITION WITH HYDROGEN DILUTION
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| 郭晓旭; 朱美芳; 刘金龙; 韩一琴; 许怀哲; 董宝中; 生文君; 韩和相
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| 1998
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发表期刊 | 物理学报
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期号 | 9页码:89-94 |
其他摘要 | 采用高氢稀硅烷热丝化学气相沉积方法制备氢化微晶硅薄膜.其结构特征用Raman谱,红外透射谱,小角X射线散射等来表征.结果表明微晶硅的大小及在薄膜中的晶态比χc随氢稀释度的提高而增加.而从红外谱计算得到氢含量则随氢稀释度的增加而减少.小角X射线散射结果表明薄膜致密度随氢稀释度的增加而增加.结合红外谱和小角X射线散射的结果讨论与比较了不同相结构下硅网络中H的键合状态.认为随着晶化的发生和晶化程度的提高H逐渐移向晶粒表面,在硅薄膜中H的存在形式从以SiH为主向SiH2转变,即在微晶硅膜中主要以SiH2形式存在于晶粒的界面. |
关键词 | 微晶硅薄膜
薄膜微结构
晶化过程
稀释度
晶态
微空洞
衬底温度
红外谱
散射强度
小角
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项目资助者 | 国家自然科学基金
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文献类型 | 期刊论文
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条目标识符 | http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221666
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专题 | 多学科研究中心
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
郭晓旭,朱美芳,刘金龙,等. 高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究[J]. 物理学报,1998(9):89-94.
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APA |
郭晓旭.,朱美芳.,刘金龙.,韩一琴.,许怀哲.,...&韩和相.(1998).高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究.物理学报(9),89-94.
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MLA |
郭晓旭,et al."高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究".物理学报 .9(1998):89-94.
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