| 高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究 |
| 其他题名 | MICROSTRUCTURESOF THE MICRO-CRYSTALLINE SILICON THIN FILMS PREPARED BY HOT WIRE CHEMICAL DEPOSITION WITH HYDROGEN DILUTION
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| 郭晓旭; 朱美芳; 刘金龙; 韩一琴; 许怀哲; 董宝中; 生文君; 韩和相
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| 1998
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| 发表期刊 | 物理学报
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| 期号 | 9页码:89-94 |
| 其他摘要 | 采用高氢稀硅烷热丝化学气相沉积方法制备氢化微晶硅薄膜．其结构特征用Ｒａｍａｎ谱，红外透射谱，小角Ｘ射线散射等来表征．结果表明微晶硅的大小及在薄膜中的晶态比χｃ随氢稀释度的提高而增加．而从红外谱计算得到氢含量则随氢稀释度的增加而减少．小角Ｘ射线散射结果表明薄膜致密度随氢稀释度的增加而增加．结合红外谱和小角Ｘ射线散射的结果讨论与比较了不同相结构下硅网络中Ｈ的键合状态．认为随着晶化的发生和晶化程度的提高Ｈ逐渐移向晶粒表面，在硅薄膜中Ｈ的存在形式从以ＳｉＨ为主向ＳｉＨ２转变，即在微晶硅膜中主要以ＳｉＨ２形式存在于晶粒的界面． |
| 关键词 | 微晶硅薄膜
薄膜微结构
晶化过程
稀释度
晶态
微空洞
衬底温度
红外谱
散射强度
小角
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| 项目资助者 | 国家自然科学基金
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221666
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| 专题 | 多学科研究中心
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
郭晓旭,朱美芳,刘金龙,等. 高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究[J]. 物理学报,1998(9):89-94.
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| APA |
郭晓旭.,朱美芳.,刘金龙.,韩一琴.,许怀哲.,...&韩和相.(1998).高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究.物理学报(9),89-94.
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| MLA |
郭晓旭,et al."高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究".物理学报 .9(1998):89-94.
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文件名：
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