色散系统中束流投影发射度的增长 | |
其他题名 | INCREASE OF BEAM PROJECTIVE EMITTANCE IN SYSTEM WITH DISPERSION |
魏开煜 | |
1983 | |
发表期刊 | 高能物理与核物理 |
期号 | 5页码:589-597 |
通讯作者 | 魏开煜 |
关键词 | 偏转磁铁 动量散度 自由振荡 束团 四极透镜 计算点 传输系统 初始点 矩阵元 公式计算结果 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | https://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/217727 |
专题 | 加速器中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 魏开煜. 色散系统中束流投影发射度的增长[J]. 高能物理与核物理,1983(5):589-597. |
APA | 魏开煜.(1983).色散系统中束流投影发射度的增长.高能物理与核物理(5),589-597. |
MLA | 魏开煜."色散系统中束流投影发射度的增长".高能物理与核物理 .5(1983):589-597. |
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