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色散系统中束流投影发射度的增长
其他题名INCREASE OF BEAM PROJECTIVE EMITTANCE IN SYSTEM WITH DISPERSION
魏开煜
1983
发表期刊高能物理与核物理
期号5页码:589-597
通讯作者魏开煜
关键词偏转磁铁 动量散度 自由振荡 束团 四极透镜 计算点 传输系统 初始点 矩阵元 公式计算结果
文献类型期刊论文
条目标识符https://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/217727
专题加速器中心
推荐引用方式
GB/T 7714
魏开煜. 色散系统中束流投影发射度的增长[J]. 高能物理与核物理,1983(5):589-597.
APA 魏开煜.(1983).色散系统中束流投影发射度的增长.高能物理与核物理(5),589-597.
MLA 魏开煜."色散系统中束流投影发射度的增长".高能物理与核物理 .5(1983):589-597.
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