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Influence of ultrathin amorphous silicon layers on the nucleation of microcrystalline silicon films under hydrogen plasma treatment 期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2011, 卷号: 98, 期号: 4, 页码: 41902
作者:  Zuo, ZW;  Guan, WT;  Wang, Y;  Lu, J;  Wang, JZ;  Pu, L;  Shi, Y;  Zheng, YD;  Luo, XY;  Wang, HH;  Wang HH(王焕华)
Adobe PDF(580Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：121/0  WOS被引：[0]  ADS被引：[2]  |  提交时间：2016/06/29
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