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磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响
孙钢杰; 伊福廷; 王焕华; 贾全杰; 张天冲
2016
通讯作者孙钢杰
文章类型期刊论文
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/260465
专题多学科研究中心
作者单位中国科学院高能物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
孙钢杰,伊福廷,王焕华,等. 磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响[J],2016.
APA 孙钢杰,伊福廷,王焕华,贾全杰,&张天冲.(2016).磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响..
MLA 孙钢杰,et al."磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响".(2016).
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