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Optimization of High Average Power FEL Beam for EUV Lithography Application
A.Endo; K.Sakaue; M.Washio
2014
会议名称Proceedings of the 36th International Free Electron Laser Conference ; Proceedings of the 36th International Free Electron Laser Conference
会议日期2014
会议地点Switzerland
会议名称Proceedings of the 36th International Free Electron Laser Conference ; Proceedings of the 36th International Free Electron Laser Conference
文献类型会议论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/256805
专题学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_FEL
作者单位Waseda University, Tokyo, Japan
推荐引用方式
GB/T 7714
A.Endo,K.Sakaue,M.Washio. Optimization of High Average Power FEL Beam for EUV Lithography Application[C],2014.
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