Band alignment of atomic layer deposited MgO/Zn0.8Al0.2O heterointerface determined by charge corrected X-ray photoelectron spectroscopy
Yan BJ(闫保军); Liu SL(刘术林); Yang YZ(杨玉真); Heng YK(衡月昆); Yan, BJ; Liu, SL; Yang, YZ; Heng, YK
刊名APPLIED SURFACE SCIENCE
2016
卷号371
DOI10.1016/j.apsusc.2016.02.164
语种英语
WOS记录号WOS:000375052200016
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文献类型期刊论文
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专题中国科学院高能物理研究所_实验物理中心_期刊论文
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GB/T 7714
Yan BJ,Liu SL,Yang YZ,et al. Band alignment of atomic layer deposited MgO/Zn0.8Al0.2O heterointerface determined by charge corrected X-ray photoelectron spectroscopy[J]. APPLIED SURFACE SCIENCE,2016,371.
APA 闫保军.,刘术林.,杨玉真.,衡月昆.,Yan, BJ.,...&Heng, YK.(2016).Band alignment of atomic layer deposited MgO/Zn0.8Al0.2O heterointerface determined by charge corrected X-ray photoelectron spectroscopy.APPLIED SURFACE SCIENCE,371.
MLA 闫保军,et al."Band alignment of atomic layer deposited MgO/Zn0.8Al0.2O heterointerface determined by charge corrected X-ray photoelectron spectroscopy".APPLIED SURFACE SCIENCE 371(2016).
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