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Overcoming the Problem of Electrical Contact to Solar Cells Fabricated using Selective-Area Silicon Nanopillars by Cesium Chloride Self-Assembly Lithography as Antireflective Layer
Liu J(刘静); Zhang XS(张新帅); Sun GJ(孙钢杰); Wang YT(王雨婷); Wang B(王波); Zhang TC(张天冲); Yi FT(伊福廷); Liu, J; Zhang, XS; Sun, GJ; Wang, YT; Wang, B; Zhang, TC; Yi, FT; Chen, F
2016
发表期刊ENERGY TECHNOLOGY
卷号4期号:2
DOI10.1002/ente.201500229
语种英语
WOS记录号WOS:000371149900008
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/247960
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GB/T 7714
Liu J,Zhang XS,Sun GJ,et al. Overcoming the Problem of Electrical Contact to Solar Cells Fabricated using Selective-Area Silicon Nanopillars by Cesium Chloride Self-Assembly Lithography as Antireflective Layer[J]. ENERGY TECHNOLOGY,2016,4(2).
APA 刘静.,张新帅.,孙钢杰.,王雨婷.,王波.,...&Chen, F.(2016).Overcoming the Problem of Electrical Contact to Solar Cells Fabricated using Selective-Area Silicon Nanopillars by Cesium Chloride Self-Assembly Lithography as Antireflective Layer.ENERGY TECHNOLOGY,4(2).
MLA 刘静,et al."Overcoming the Problem of Electrical Contact to Solar Cells Fabricated using Selective-Area Silicon Nanopillars by Cesium Chloride Self-Assembly Lithography as Antireflective Layer".ENERGY TECHNOLOGY 4.2(2016).
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