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A comparative study on ferromagnetic C/O-implanted GaN films by positron annihilation spectroscopy
Xu, JP; Li Q(李强); Li, Q; Liu, JD; Ye, BJ
2016
发表期刊NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS
卷号375
DOI10.1016/j.nimb.2016.03.057
语种英语
WOS记录号WOS:000375808400018
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/247930
专题东莞分部
中国科学院高能物理研究所_中国散裂中子源
推荐引用方式
GB/T 7714
Xu, JP,Li Q,Li, Q,et al. A comparative study on ferromagnetic C/O-implanted GaN films by positron annihilation spectroscopy[J]. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS,2016,375.
APA Xu, JP,李强,Li, Q,Liu, JD,&Ye, BJ.(2016).A comparative study on ferromagnetic C/O-implanted GaN films by positron annihilation spectroscopy.NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS,375.
MLA Xu, JP,et al."A comparative study on ferromagnetic C/O-implanted GaN films by positron annihilation spectroscopy".NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 375(2016).
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