An in situ resonant photoemission and x-ray absorption study of the BiFeO3 thin film
Ablat, A; Mamat, M; Wu, R; Ghupur, Y; Gholam, T; Muhemmed, E; Wang, JO; Qian, HJ; Wu, R; Ibrahim, K; Wang JO(王嘉欧); Qian HJ(钱海杰); Wu R(吴蕊); Kui RX(奎热西)
刊名CERAMICS INTERNATIONAL
2016
卷号42期号:9
DOI10.1016/j.ceramint.2016.03.157
语种英语
WOS记录号WOS:000376693800014
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/247842
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
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GB/T 7714
Ablat, A,Mamat, M,Wu, R,et al. An in situ resonant photoemission and x-ray absorption study of the BiFeO3 thin film[J]. CERAMICS INTERNATIONAL,2016,42(9).
APA Ablat, A.,Mamat, M.,Wu, R.,Ghupur, Y.,Gholam, T.,...&奎热西.(2016).An in situ resonant photoemission and x-ray absorption study of the BiFeO3 thin film.CERAMICS INTERNATIONAL,42(9).
MLA Ablat, A,et al."An in situ resonant photoemission and x-ray absorption study of the BiFeO3 thin film".CERAMICS INTERNATIONAL 42.9(2016).
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