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Electron-spectroscopy study of amorphous CN : Ti films
Cao, ZX; Guo, JD; Wang, EG; Liu, FQ; Liu FQ(刘凤琴)
1999
发表期刊CHINESE PHYSICS LETTERS
卷号16期号:12页码:928-930
通讯作者Chinese Acad Sci, Inst Phys, State Key Lab Surface Phys, Beijing 100080, Peoples R China ; Chinese Acad Sci, Inst High Energy Phys, Beijing 100039, Peoples R China
摘要Amorphous CN:Ti films deposited by using the reactive magnetron sputtering method were annealed in vacuum under 200 to 600 degrees C. Incorporation of Ti (less than 3 at.%) has brought some new perspectives to the material. Electron-energy-loss spectrum indicates improved conductivity in CN:Ti films as in the insulating CN films. The high-resolution core-level x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) studies show that most carbon atoms form homeopolar bonding in as-deposited CN:Ti film. While the N 1s line always shrinks with increasing annealing temperature, the total full width at half maximum of C 1s line decreases only at annealing temperature over 300 degrees C when the broadening due to heterobonding formation is outdone by the effect of increasing order. An enhanced pi-band feature in the valence-XPS spectra, at high annealing temperatures confirms the graphitisation tendency of this material.
文章类型Article
学科领域Physics
研究领域[WOS]Physics
DOI10.1088/0256-307X/16/12/025
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语种英语
WOS类目Physics, Multidisciplinary
WOS记录号WOS:000084649500025
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被引频次:1[WOS]   [WOS记录]     [WOS相关记录]
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/238757
专题多学科研究中心
作者单位中国科学院高能物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
Cao, ZX,Guo, JD,Wang, EG,et al. Electron-spectroscopy study of amorphous CN : Ti films[J]. CHINESE PHYSICS LETTERS,1999,16(12):928-930.
APA Cao, ZX,Guo, JD,Wang, EG,Liu, FQ,&刘凤琴.(1999).Electron-spectroscopy study of amorphous CN : Ti films.CHINESE PHYSICS LETTERS,16(12),928-930.
MLA Cao, ZX,et al."Electron-spectroscopy study of amorphous CN : Ti films".CHINESE PHYSICS LETTERS 16.12(1999):928-930.
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