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Design of magnet and control of the beam emittance for Penning H- ion source
欧阳华甫; Zhang HS(张华顺); Ouyang, HF; Zhang, HS
2008
发表期刊CHINESE PHYSICS C
卷号32期号:8页码:668-672
通讯作者[Ouyang Hua-Fu ; Zhang Hua-Shun] CAS, Inst High Energy Phys, Beijing 100049, Peoples R China
文章类型Article
摘要The design requirement and principle of the deflection magnet for Magnetron and Penning H- ion source are discussed. It is proved that there exists a maximum emittance for the beam that may be transformed by the magnet into a state with equal Twiss parameters of alpha(r) = alpha(y) and beta(r) = beta(y), which is the requisite condition to get a minimum emittance at the entrance of RFQ after transporting by a LEBT with solenoids. For this maximum emittance, the corresponding magnetic field gradient index is 1.
关键词H- ion source Magnetron ion source Penning ion source magnetic field gradient index
学科领域Physics
研究领域[WOS]Physics ; Physics
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语种英语
研究领域[WOS]Physics ; Physics
WOS类目Physics, Nuclear ; Physics, Particles & Fields
WOS记录号WOS:000258423200017
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/238238
专题加速器中心
作者单位中国科学院高能物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
欧阳华甫,Zhang HS,Ouyang, HF,et al. Design of magnet and control of the beam emittance for Penning H- ion source[J]. CHINESE PHYSICS C,2008,32(8):668-672.
APA 欧阳华甫,张华顺,Ouyang, HF,&Zhang, HS.(2008).Design of magnet and control of the beam emittance for Penning H- ion source.CHINESE PHYSICS C,32(8),668-672.
MLA 欧阳华甫,et al."Design of magnet and control of the beam emittance for Penning H- ion source".CHINESE PHYSICS C 32.8(2008):668-672.
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