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THE ETCHING CHARACTERISTICS OF PHOSPHATE-GLASS TRACK DETECTORS
Wang SC(王世成); WANG, SC; PRICE, PB
1991
发表期刊NUCLEAR TRACKS AND RADIATION MEASUREMENTS
卷号18期号:4页码:407-410
通讯作者UNIV CALIF BERKELEY,DEPT PHYS,BERKELEY,CA 94720
文章类型Article
摘要The etching characteristics of phosphate glasses of types VG-13 and PSK-50 have been studied under various etching conditions using relativistic heavy ions U-238, Au-197 and La-139. The addition of KF to HBF4 solution markedly increases the sensitivity of VG-13. The effects of concentration of KF on s (= v(T)/v(G)) were studied. For La ions (Z/beta = 63), s was measured to be about 1.15.
学科领域Nuclear Science & Technology
研究领域[WOS]Nuclear Science & Technology ; Nuclear Science & Technology
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语种英语
研究领域[WOS]Nuclear Science & Technology ; Nuclear Science & Technology
WOS类目Nuclear Science & Technology
WOS记录号WOS:A1991GW81600007
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/237353
专题多学科研究中心
作者单位中国科学院高能物理研究所
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GB/T 7714
Wang SC,WANG, SC,PRICE, PB. THE ETCHING CHARACTERISTICS OF PHOSPHATE-GLASS TRACK DETECTORS[J]. NUCLEAR TRACKS AND RADIATION MEASUREMENTS,1991,18(4):407-410.
APA 王世成,WANG, SC,&PRICE, PB.(1991).THE ETCHING CHARACTERISTICS OF PHOSPHATE-GLASS TRACK DETECTORS.NUCLEAR TRACKS AND RADIATION MEASUREMENTS,18(4),407-410.
MLA 王世成,et al."THE ETCHING CHARACTERISTICS OF PHOSPHATE-GLASS TRACK DETECTORS".NUCLEAR TRACKS AND RADIATION MEASUREMENTS 18.4(1991):407-410.
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