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Overcoming the Problem of Electrical Contact to Solar Cells Fabricated using Selective-Area Silicon Nanopillars by Cesium Chloride Self-Assembly Lithography as Antireflective Layer
Liu J(刘静); Zhang XS(张新帅); Sun GJ(孙钢杰); Wang YT(王雨婷); Wang B(王波); Zhang TC(张天冲); Yi FT(伊福廷); Liu; J.; X. Zhang; G. Sun; Y. Wang; B. Wang; T. Zhang; F. Yi; F. Chen
2015
发表期刊Energy Technology
卷号4期号:2页码:298-303
通讯作者伊福廷
文章类型Article
DOI10.1002/ente.201500229
收录类别EI
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文献类型期刊论文
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GB/T 7714
Liu J,Zhang XS,Sun GJ,et al. Overcoming the Problem of Electrical Contact to Solar Cells Fabricated using Selective-Area Silicon Nanopillars by Cesium Chloride Self-Assembly Lithography as Antireflective Layer[J]. Energy Technology,2015,4(2):298-303.
APA 刘静.,张新帅.,孙钢杰.,王雨婷.,王波.,...&F. Chen.(2015).Overcoming the Problem of Electrical Contact to Solar Cells Fabricated using Selective-Area Silicon Nanopillars by Cesium Chloride Self-Assembly Lithography as Antireflective Layer.Energy Technology,4(2),298-303.
MLA 刘静,et al."Overcoming the Problem of Electrical Contact to Solar Cells Fabricated using Selective-Area Silicon Nanopillars by Cesium Chloride Self-Assembly Lithography as Antireflective Layer".Energy Technology 4.2(2015):298-303.
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