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X-ray nonspecular scattering from amorphous Mo films
Ma HJ(马宏骥); Jiang XM(姜晓明); Cui MQ(崔明启); Xian DC(冼鼎昌); Ma, HJ; Jiang, XM; Cui, MQ; Xian, DC
1997
发表期刊CHINESE PHYSICS LETTERS
卷号14期号:3页码:#REF!
通讯作者Ma, HJ (reprint author), CHINESE ACAD SCI,INST HIGH ENERGY PHYS,BEIJING 100039,PEOPLES R CHINA.
摘要X-ray nonspecular scattering method is used to study the structures of Mo thin films fabricated with magnetron sputtering under different Ar pressures, The results show that with the increase of Ar pressure, the density of amorphous Mo film decreased; the surface roughness of the films increased, while the surface coherent length decreased. The abnormal glow discharging in the sputtering processes interprets the observed results well.
文章类型Article
学科领域Physics
收录类别SCI
WOS类目Physics, Multidisciplinary
WOS记录号WOS:A1997XA76400009
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被引频次:1[WOS]   [WOS记录]     [WOS相关记录]
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/226812
专题院士
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GB/T 7714
Ma HJ,Jiang XM,Cui MQ,et al. X-ray nonspecular scattering from amorphous Mo films[J]. CHINESE PHYSICS LETTERS,1997,14(3):#REF!.
APA 马宏骥.,姜晓明.,崔明启.,冼鼎昌.,Ma, HJ.,...&Xian, DC.(1997).X-ray nonspecular scattering from amorphous Mo films.CHINESE PHYSICS LETTERS,14(3),#REF!.
MLA 马宏骥,et al."X-ray nonspecular scattering from amorphous Mo films".CHINESE PHYSICS LETTERS 14.3(1997):#REF!.
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