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ETCHING CHARACTERISTICS OF PHOSPHATE-GLASS TRACK DETECTOR
Wang SC(王世成); WANG, SC; PRICE, PB
1993
发表期刊NUCLEAR TRACKS AND RADIATION MEASUREMENTS
卷号22期号:1-4页码:#REF!
通讯作者WANG, SC (reprint author), INST HIGH ENERGY PHYS,POB 2732,BEIJING,PEOPLES R CHINA.
摘要The etching characteristics of phosphate glass VG-13 have been studied in various etching conditions using relativistic heavy ions U-238, Au-197 and La-139. The addition of KF to HBF4 solution obviously increases the sensitivity of VG-13. The effects of concentration of KF on S and V(g) were studied. For La ions (z/beta=63), S was measured to be about 1.15.
文章类型Article; Proceedings Paper
关键词PHOSPHATE GLASS ETCHING POTASSIUM FLUORIDE SENSITIVITY
学科领域Nuclear Science & Technology
DOI10.1016/0969-8078(93)90042-3
收录类别SCI
WOS类目Nuclear Science & Technology
WOS记录号WOS:A1993NY99100039
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/226761
专题多学科研究中心
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GB/T 7714
Wang SC,WANG, SC,PRICE, PB. ETCHING CHARACTERISTICS OF PHOSPHATE-GLASS TRACK DETECTOR[J]. NUCLEAR TRACKS AND RADIATION MEASUREMENTS,1993,22(1-4):#REF!.
APA 王世成,WANG, SC,&PRICE, PB.(1993).ETCHING CHARACTERISTICS OF PHOSPHATE-GLASS TRACK DETECTOR.NUCLEAR TRACKS AND RADIATION MEASUREMENTS,22(1-4),#REF!.
MLA 王世成,et al."ETCHING CHARACTERISTICS OF PHOSPHATE-GLASS TRACK DETECTOR".NUCLEAR TRACKS AND RADIATION MEASUREMENTS 22.1-4(1993):#REF!.
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