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THE DEPTH PROFILE OF HIGH-DOSE LOW-MASS IONS IMPLANTED INTO HIGHER MASS SUBSTRATE BY RBS ANALYSIS
YIN, SD; ZHANG, JP; GU, Q; LIU, SJ; XIE, BZ; MA, TL; QU, ZY; Liu SJ(刘世杰); Xie BZ(谢葆珍)
1981
发表期刊NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH
卷号191期号:1-3页码:#REF!
通讯作者YIN, SD (reprint author), ACAD SINICA,INST SEMICOND,PEKING,PEOPLES R CHINA.
文章类型Article
学科领域Instruments & Instrumentation; Nuclear Science & Technology
收录类别SCI
WOS类目Instruments & Instrumentation ; Nuclear Science & Technology
WOS记录号WOS:A1981NE29300027
引用统计
被引频次:5[WOS]   [WOS记录]     [WOS相关记录]
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/226502
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
YIN, SD,ZHANG, JP,GU, Q,et al. THE DEPTH PROFILE OF HIGH-DOSE LOW-MASS IONS IMPLANTED INTO HIGHER MASS SUBSTRATE BY RBS ANALYSIS[J]. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH,1981,191(1-3):#REF!.
APA YIN, SD.,ZHANG, JP.,GU, Q.,LIU, SJ.,XIE, BZ.,...&谢葆珍.(1981).THE DEPTH PROFILE OF HIGH-DOSE LOW-MASS IONS IMPLANTED INTO HIGHER MASS SUBSTRATE BY RBS ANALYSIS.NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH,191(1-3),#REF!.
MLA YIN, SD,et al."THE DEPTH PROFILE OF HIGH-DOSE LOW-MASS IONS IMPLANTED INTO HIGHER MASS SUBSTRATE BY RBS ANALYSIS".NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH 191.1-3(1981):#REF!.
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