Study on new type LIGA mask fabrication technique
Chen, D; Zhu, J; Lei, W; Wang, S; Zhang, DC; Yi, FT; Yi FT(伊福廷)
刊名HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS-CHINESE EDITION
2001
卷号25页码:#REF!
关键词LIGA mask ICP deepetching LIGA technique
学科分类Physics
其他题名新型LIGA掩模板制造工艺研究
通讯作者Chen, D (reprint author), Shanghai Jiao Tong Univ, Inst Micro Nanometer Sci & Technol, Shanghai 200030, Peoples R China.
文章类型Article
英文摘要The fabrication of LIGA masks is a critical and challenging process in LIGA technique. As inductively coupled plasma (ICP) deepetching appears to be the most suitable source for deep silicon etching, we fabricated a new type LIGA mask using this technique. In comparison with other types of LIGA masks, the mask we fabricated has the advantages of its low cost and its simple fabrication process. Desired microstructures have also been fabricated using this new type LIGA mask in LIGA technique.
类目[WOS]Physics, Nuclear ; Physics, Particles & Fields
收录类别SCI
WOS记录号WOS:000176377600027
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/226390
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
Chen, D,Zhu, J,Lei, W,et al. Study on new type LIGA mask fabrication technique[J]. HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS-CHINESE EDITION,2001,25:#REF!.
APA Chen, D.,Zhu, J.,Lei, W.,Wang, S.,Zhang, DC.,...&伊福廷.(2001).Study on new type LIGA mask fabrication technique.HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS-CHINESE EDITION,25,#REF!.
MLA Chen, D,et al."Study on new type LIGA mask fabrication technique".HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS-CHINESE EDITION 25(2001):#REF!.
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