New LIGA exposure source in China
Tang, E; Yi FT(伊福廷); Yi, F; Zhang, SB; Chen, D
刊名MICROSYSTEM TECHNOLOGIES
1998
卷号4期号:2页码:#REF!
学科分类Engineering; Science & Technology - Other Topics; Materials Science; Physics
DOI10.1007/s005420050094
通讯作者Tang, E (reprint author), Inst High Energy Phys, BSRF, POB 918, Beijing 100039, Peoples R China.
文章类型Article
英文摘要An advanced Light source has been proposed by Municipality of Shanghai and the Chinese Academy of Sciences. It would be scheduled in the beginning of next century. The main propose is for the fundamental scientific research and industrial application etc. The parameters of Shanghai Synchrotron Radiation Facility (SSRF) are listed. The LIGA experimental station are planned to build in the first phase of construction of SSRF. Main parameters, spectrum and power density of beam lines for deep etching lithography are illustrated.
类目[WOS]Engineering, Electrical & Electronic ; Nanoscience & Nanotechnology ; Materials Science, Multidisciplinary ; Physics, Applied
收录类别SCI
WOS记录号WOS:000072450400003
引用统计
被引频次:6[WOS]   [WOS记录]     [WOS相关记录]
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/225817
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
Tang, E,Yi FT,Yi, F,et al. New LIGA exposure source in China[J]. MICROSYSTEM TECHNOLOGIES,1998,4(2):#REF!.
APA Tang, E,伊福廷,Yi, F,Zhang, SB,&Chen, D.(1998).New LIGA exposure source in China.MICROSYSTEM TECHNOLOGIES,4(2),#REF!.
MLA Tang, E,et al."New LIGA exposure source in China".MICROSYSTEM TECHNOLOGIES 4.2(1998):#REF!.
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