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SIMULATION OF RELATIONSHIPS BETWEEN SUBSTRATE XRF INTENSITIES AND FILM THICKNESSES
Fan QM(范钦敏); FAN, QM
1993
发表期刊X-RAY SPECTROMETRY
卷号22期号:1页码:11-12
通讯作者FAN, QM (reprint author), INST HIGH ENERGY PHYS,BEIJING 100080,PEOPLES R CHINA.
文章类型Article
摘要A Monte Carlo method was used to simulate relationships between substrate XRF intensities and film thicknesses for nickel film- and tin film-substrate systems. Experimental measurements of these relationships were performed for a few film-substrate systems. Good agreement between simulated and experimental values was obtained.
学科领域Spectroscopy
DOI10.1002/xrs.1300220104
收录类别SCI
WOS类目Spectroscopy
WOS记录号WOS:A1993KJ58000002
引用统计
被引频次:3[WOS]   [WOS记录]     [WOS相关记录]
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/225482
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
Fan QM,FAN, QM. SIMULATION OF RELATIONSHIPS BETWEEN SUBSTRATE XRF INTENSITIES AND FILM THICKNESSES[J]. X-RAY SPECTROMETRY,1993,22(1):11-12.
APA 范钦敏,&FAN, QM.(1993).SIMULATION OF RELATIONSHIPS BETWEEN SUBSTRATE XRF INTENSITIES AND FILM THICKNESSES.X-RAY SPECTROMETRY,22(1),11-12.
MLA 范钦敏,et al."SIMULATION OF RELATIONSHIPS BETWEEN SUBSTRATE XRF INTENSITIES AND FILM THICKNESSES".X-RAY SPECTROMETRY 22.1(1993):11-12.
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