BSRF上同步辐射深度光刻的实验研究
彭良强; 伊福廷; 韩勇; 张菊芳)
刊名高能物理与核物理
2001
期号S1页码:128-130
关键词同步辐射深度光刻 超深结构 高深宽比
其他题名STUDY ON SYNCHROTRON RADIATION LITHOGRAPHY AT BSRF
通讯作者彭良强
中文摘要大结构深度和高深宽比是同步辐射深度光刻的突出优点.提出采用现有掩模,进行多次曝光、显影的方法,实验获得厚2.2mm的胶结构.系列研究掩模、光刻胶、基底、光谱和光强对深宽比的影响,实验获得深宽比104的胶结构.
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/223178
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
彭良强,伊福廷,韩勇,等. BSRF上同步辐射深度光刻的实验研究[J]. 高能物理与核物理,2001(S1):128-130.
APA 彭良强,伊福廷,韩勇,&张菊芳).(2001).BSRF上同步辐射深度光刻的实验研究.高能物理与核物理(S1),128-130.
MLA 彭良强,et al."BSRF上同步辐射深度光刻的实验研究".高能物理与核物理 .S1(2001):128-130.
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