| 聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析 |
| 其他题名 | Pore Structural Analysis on Poly（Methyl）silsesquioxane Porous Thin Films by Synchrotron Radiation Small Angle X-ray Scattering
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| 高芳亮; 李生英; 陈宏基; 吴忠华 ; 李志宏
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| 2012
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| 发表期刊 | 材料研究学报
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| 期号 | 1页码:68-72 |
| 其他摘要 | 用旋涂工艺和致孔法制备了一组聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜,用红外吸收光谱(FT-IR)、热重分析(TGA)对其进行表征,用同步辐射光源进行小角X射线散射测试,在掠入射模式(GISAXS)下进行微孔结构分析。结果表明,聚甲基硅氧烷前驱体与致孔剂具有良好的相容性;薄膜的小角散射曲线均不遵守Porod定理、形成正偏离;所有纳米多孔薄膜具备孔分形特征;薄膜基体与孔结构之间存在微电子密度起伏,且薄膜孔径小于3 nm。 |
| 关键词 | 有机高分子材料
聚甲基硅氧烷
掠入射小角X射线散射
纳米多孔薄膜
孔结构
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222953
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| 专题 | 多学科研究中心
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
高芳亮,李生英,陈宏基,等. 聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析[J]. 材料研究学报,2012(1):68-72.
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| APA |
高芳亮,李生英,陈宏基,吴忠华,&李志宏.(2012).聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析.材料研究学报(1),68-72.
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| MLA |
高芳亮,et al."聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析".材料研究学报 .1(2012):68-72.
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