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聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析
其他题名Pore Structural Analysis on Poly(Methyl)silsesquioxane Porous Thin Films by Synchrotron Radiation Small Angle X-ray Scattering
高芳亮; 李生英; 陈宏基; 吴忠华; 李志宏
2012
发表期刊材料研究学报
期号1页码:68-72
其他摘要用旋涂工艺和致孔法制备了一组聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜,用红外吸收光谱(FT-IR)、热重分析(TGA)对其进行表征,用同步辐射光源进行小角X射线散射测试,在掠入射模式(GISAXS)下进行微孔结构分析。结果表明,聚甲基硅氧烷前驱体与致孔剂具有良好的相容性;薄膜的小角散射曲线均不遵守Porod定理、形成正偏离;所有纳米多孔薄膜具备孔分形特征;薄膜基体与孔结构之间存在微电子密度起伏,且薄膜孔径小于3 nm。
关键词有机高分子材料 聚甲基硅氧烷 掠入射小角X射线散射 纳米多孔薄膜 孔结构
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222953
专题多学科研究中心
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GB/T 7714
高芳亮,李生英,陈宏基,等. 聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析[J]. 材料研究学报,2012(1):68-72.
APA 高芳亮,李生英,陈宏基,吴忠华,&李志宏.(2012).聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析.材料研究学报(1),68-72.
MLA 高芳亮,et al."聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析".材料研究学报 .1(2012):68-72.
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