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D~+离子束辐照对Ti膜的影响
其他题名EFFECT OF D~+ BEAM IRRADIATION ON Ti FILM
王博宇; 向伟; 谈效华; 戴晶怡; 程亮; 秦秀波
2010
发表期刊金属学报
期号7页码:810-813
其他摘要在加速器上,利用不同能量的D~+离子束对Ti膜进行连续辐照,利用慢正电子湮没技术和SEM对束流辐照前后Ti膜进行表征.结果表明,D~+离子束对Ti膜造成辐照损伤,随D~+离子束能量增大,辐照损伤的程度加重;辐照损伤最大值在0.3μm处;D~+离子束对Ti膜表面造成不同程度的烧蚀,随D~+离子束能量增加,膜表面烧蚀程度增加,膜表面几何不均匀性导致膜表面出现选择性烧蚀.数值计算表明,随能量增加,D~+离子在Ti膜中的能量沉积增大,这与SEM观测结果相符.
关键词D~+ Ti膜 慢正电子湮没技术
项目资助者中国工程物理研究院电子工程研究所科技创新基金资助项目S20090801~~
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222808
专题多学科研究中心
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GB/T 7714
王博宇,向伟,谈效华,等. D~+离子束辐照对Ti膜的影响[J]. 金属学报,2010(7):810-813.
APA 王博宇,向伟,谈效华,戴晶怡,程亮,&秦秀波.(2010).D~+离子束辐照对Ti膜的影响.金属学报(7),810-813.
MLA 王博宇,et al."D~+离子束辐照对Ti膜的影响".金属学报 .7(2010):810-813.
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