退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响(英文)
张侠; 刘渝珍; 康朝阳; 徐彭寿; 王家鸥; 奎热西
刊名发光学报
2010
期号5页码:613-618
关键词ZnO薄膜 快速退火 光致发光 X射线光电子能谱 氧空位
其他题名Effects of Annealing Atmosphere and Temperature on the Structure and Photoluminescence of ZnO Films Prepared by Pulsed LaserDeposition
中文摘要采用脉冲激光沉积技术在Si/蓝宝石衬底上制备了ZnO薄膜,结合快速退火设备研究了不同退火温度(500~900℃)及退火气氛(N2,O2)对薄膜的结构及其发光性能的影响。并优化条件得到具有最小半峰全宽及最大晶粒尺寸的薄膜。X射线衍射(XRD)结果表明:氮气氛下退火的ZnO薄膜最佳退火温度为900℃;氧气氛下退火的ZnO薄膜最佳退火温度为800℃。红外(IR)光谱中,退火后Zn-O特征振动峰红移,说明在退火过程中,原子重新排布后占据较低能量位置;同样的退火温度下,氮气氛下退火的薄膜质量更优。同步辐射光电子能谱(synchrotron-based XPS)分别表征了未退火及N2,O2下900℃退火的...
项目资助者supported by National Natural Science Foundation(50532070)~~
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222786
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
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GB/T 7714
张侠,刘渝珍,康朝阳,等. 退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响(英文)[J]. 发光学报,2010(5):613-618.
APA 张侠,刘渝珍,康朝阳,徐彭寿,王家鸥,&奎热西.(2010).退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响(英文).发光学报(5),613-618.
MLA 张侠,et al."退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响(英文)".发光学报 .5(2010):613-618.
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