同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚
巩岩; 陈波; 尼启良; 崔明启; 赵屹东; 吴忠华
刊名高能物理与核物理
2005
期号11页码:1104-1106
关键词同步辐射光源 掠出射 X射线荧光 薄膜
其他题名Thickness Analysis for Thin-Film by Glazing Exit X-ray Fluorescence with Synchrotron Radiation Source
中文摘要掠射X射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能。尤其是可以探测膜层厚度、界面形貌和组成。以北京同步辐射光源作激发光源,采用掠出射方法测试了Si基片上不同厚度的单层Cr膜样品,测试结果与理论计算基本符合。同时观察到一定厚度的薄膜样品产生的掠出射X射线荧光的干涉现象。
项目资助者应用光学国家重点实验室基金(DA00Q02D)~~
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222265
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
巩岩,陈波,尼启良,等. 同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚[J]. 高能物理与核物理,2005(11):1104-1106.
APA 巩岩,陈波,尼启良,崔明启,赵屹东,&吴忠华.(2005).同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚.高能物理与核物理(11),1104-1106.
MLA 巩岩,et al."同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚".高能物理与核物理 .11(2005):1104-1106.
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