氧化钒薄膜微观结构的研究
潘梦霄; 曹兴忠; 李养贤; 王宝义; 薛德胜; 马创新; 周春兰; 魏龙
刊名物理学报
2004
期号6页码:1956-1960
关键词微观结构 氧化钒薄膜 择优取向 直流磁控溅射
其他题名Microstructural features of DC sputtered vanadium oxide thin films
通讯作者魏龙
中文摘要采用直流磁控反应溅射在Si(1 0 0 )衬底上溅射得到 (0 0 1 )取向的V2 O5薄膜 .x射线衍射 (XRD)、扫描电镜 (SEM)和傅里叶变换红外光谱 (FTIR)的结果表明 ,氧分压影响薄膜的成分和生长取向 ,在氧分压 0 4Pa时溅射得到 (0 0 1 )取向的纳米V2 O5薄膜 ,即沿c轴垂直衬底方向取向生长的薄膜 .V2 O5薄膜经过真空退火得到 (0 0 1 )取向的VO2 薄膜 ,晶体颗粒长大 .对薄膜的分子结构和退火过程的晶格转换进行了分析 ,证实了氧分压对薄膜晶体结构的影响
项目资助者国家自然科学基金 (批准号 :1992 70 0 1)资助的课题~~
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222206
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
中国科学院高能物理研究所_核技术应用研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
潘梦霄,曹兴忠,李养贤,等. 氧化钒薄膜微观结构的研究[J]. 物理学报,2004(6):1956-1960.
APA 潘梦霄.,曹兴忠.,李养贤.,王宝义.,薛德胜.,...&魏龙.(2004).氧化钒薄膜微观结构的研究.物理学报(6),1956-1960.
MLA 潘梦霄,et al."氧化钒薄膜微观结构的研究".物理学报 .6(2004):1956-1960.
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