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深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0
其他题名Deep-submicron X-ray Lithography Simulation Software XLSS 1.0
谢常青; 王德强; 陈大鹏; 叶甜春; 伊福廷; 韩勇; 张菊芳
2004
发表期刊微细加工技术
期号4页码:27-30+35
其他摘要介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件———XLSS1 0。该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应,对光刻胶表面空间光强分布及光刻胶剖面进行了精确模拟计算,发现模拟结果与实验结果吻合很好,且模拟结果的特征尺寸宽度与实验结果的特征尺寸宽度误差小于±10%。
关键词X射线光刻 同步辐射 束衍生法 面向对象编程
项目资助者973资助项目(G200036504) ; 北京同步辐射装置重点资助项目(BSRF2001-03)
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222195
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
谢常青,王德强,陈大鹏,等. 深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0[J]. 微细加工技术,2004(4):27-30+35.
APA 谢常青.,王德强.,陈大鹏.,叶甜春.,伊福廷.,...&张菊芳.(2004).深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0.微细加工技术(4),27-30+35.
MLA 谢常青,et al."深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0".微细加工技术 .4(2004):27-30+35.
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