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纳米岛光刻技术及其应用
其他题名Nano Islands Lithography and Its Applications
伊福廷; Mino Green
2004
发表期刊微细加工技术
期号4页码:22-26
通讯作者伊福廷
其他摘要介绍了一种基于微加工技术的新方法———纳米岛光刻技术。利用该技术制造出几十纳米到微米尺度的岛结构,然后利用剥离、刻蚀等微加工技术,将该岛转化成纳米孔、纳米岛、纳米井等结构。该技术的特点是能够制造出具有各种密度的纳米结构(最高覆盖率可达50%以上),且开发成本低,工艺性能优越,是一种有效制造纳米岛结构的专业方法。
关键词光刻 纳米岛 纳米技术 微加工
项目资助者英国皇家协会王宽城基金资助项目(ART/CN/XFI/KCW/13452) ; 国家自然科学基金资助项目(50375150)
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222194
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
伊福廷,Mino Green. 纳米岛光刻技术及其应用[J]. 微细加工技术,2004(4):22-26.
APA 伊福廷,&Mino Green.(2004).纳米岛光刻技术及其应用.微细加工技术(4),22-26.
MLA 伊福廷,et al."纳米岛光刻技术及其应用".微细加工技术 .4(2004):22-26.
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