Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究
朱杰; 崔明启; 郑雷; 赵屹东; 王占山
刊名核技术
2004
期号7页码:489-493
关键词周期多层膜 退火 小角衍射 同步辐射 软X光 偏振
其他题名A STUDY OF ANNEALED Mo/Si/C MULTILAYER FILM BY SYNCHROTRON RADIATION
通讯作者朱杰
中文摘要通过对Mo/Si周期多层膜添加碳(C)层、进行高温退火处理,研究了Mo/Si/C多层膜进行热处理后在同步辐照条件下对薄膜相关物理特性的影响。发现Mo/Si周期性多层膜增加C层后不影响薄膜的反射特性,退火前45°入射角92 eV处反射率高达42%;热稳定性也有所提高,在600℃高温退火后仍能保持6.8%(97 eV处)的反射率。同时,由于非晶C在高温条件下的扩散导致薄膜结构发生变化,观测到薄膜的小角衍射曲线中出现并临的双衍射峰结构。
项目资助者国家自然基金项目(10275078) ; 上海科学与技术发展基金项目资助(022261049)
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222139
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
朱杰,崔明启,郑雷,等. Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究[J]. 核技术,2004(7):489-493.
APA 朱杰,崔明启,郑雷,赵屹东,&王占山.(2004).Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究.核技术(7),489-493.
MLA 朱杰,et al."Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究".核技术 .7(2004):489-493.
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