IHEP OpenIR  > 多学科研究中心
分子束外延生长ZnO薄膜及性能研究
其他题名Growth and characterization of ZnO thin film prepared by molecular -beam epitaxy on Si(100)
周映雪; 史向华; 俞根才; 张新夷; 阎文胜; 韦世强; 谢亚宁
2003
发表期刊核技术
期号1页码:9--12
其他摘要用分子束外延 (MBE)和氧气氛方法 ,并改变束源炉和衬底生长温度 ,在Si(10 0 )衬底上 ,采用Zn作缓冲层以解决ZnO层与衬底间的晶格失配问题 ,生长得到ZnO薄膜。在ZnO Zn Si(10 0 )薄膜样品的X射线衍射 (XRD)谱中 ,观测到ZnO的 (10 0 )、(0 0 2 )、(10 1)、(10 2 )和 (10 3)等衍射峰 ;用原子力显微镜 (AFM)观测ZnO薄膜的表面形貌 ,为直径约 80— 90nm的量子点 ,表明已得到具有纳米结构的ZnO薄膜。用同步辐射EXAFS技术研究了ZnO薄膜的局域结构 ,得到有关的几个结构参数
关键词分子束外延 ZnO 扩展的X射线吸收精细结构 X射线衍射
项目资助者国家重点基础研究专项 (G2 0 0 1cb3 0 95 0 5 )和表面物理实验室开放课题的资助
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222036
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
周映雪,史向华,俞根才,等. 分子束外延生长ZnO薄膜及性能研究[J]. 核技术,2003(1):9--12.
APA 周映雪.,史向华.,俞根才.,张新夷.,阎文胜.,...&谢亚宁.(2003).分子束外延生长ZnO薄膜及性能研究.核技术(1),9--12.
MLA 周映雪,et al."分子束外延生长ZnO薄膜及性能研究".核技术 .1(2003):9--12.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
4942.pdf(208KB)期刊论文作者接受稿限制开放CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[周映雪]的文章
[史向华]的文章
[俞根才]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[周映雪]的文章
[史向华]的文章
[俞根才]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[周映雪]的文章
[史向华]的文章
[俞根才]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。