质子LIGA工艺的探讨
彭良强; 徐韬光; 韩勇; 伊福廷; 张菊芳
刊名微纳电子技术
2002
期号5页码:34-36
关键词微细加工 质子束 准LIGA
其他题名RESEARCH ON PROTON LIGA TECHNOLOGY
通讯作者彭良强
中文摘要提出采用掩模法的质子LIGA方法,即利用厚胶光刻产生掩模,然后进行质子束深度刻蚀、显影获得微结构。根据TRIM96程序进行模拟计算,该方法可以获得深度达数毫米、深宽比为30以上的微结构。利用通常的LIGA工艺制备了质子束深度刻蚀的掩模。在高能所35MeV质子加速器上进行曝光试验,结果表明,采用PMMA光刻胶具有足够的灵敏度。
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221957
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_加速器中心
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
彭良强,徐韬光,韩勇,等. 质子LIGA工艺的探讨[J]. 微纳电子技术,2002(5):34-36.
APA 彭良强,徐韬光,韩勇,伊福廷,&张菊芳.(2002).质子LIGA工艺的探讨.微纳电子技术(5),34-36.
MLA 彭良强,et al."质子LIGA工艺的探讨".微纳电子技术 .5(2002):34-36.
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