同步辐射光刻技术研究进展
陈大鹏; 叶甜春; 谢常青; 李兵; 董立军; 胥兴才; 赵玪莉; 韩敬东; 彭良强; 伊福廷; 韩勇; 张菊芳
刊名核技术
2002
期号10页码:817-821
关键词光刻 X射线光刻 下一代光刻 掩模
其他题名Investigation on synchrotron radiation lithography technology
中文摘要光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术 ,X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种 ,具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点 ,本文报告了国内利用同步辐射源的X射线掩模和光刻技术研究的最新进展
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221935
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
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GB/T 7714
陈大鹏,叶甜春,谢常青,等. 同步辐射光刻技术研究进展[J]. 核技术,2002(10):817-821.
APA 陈大鹏.,叶甜春.,谢常青.,李兵.,董立军.,...&张菊芳.(2002).同步辐射光刻技术研究进展.核技术(10),817-821.
MLA 陈大鹏,et al."同步辐射光刻技术研究进展".核技术 .10(2002):817-821.
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