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同步辐射X射线形貌术在晶体生长和缺陷研究中的应用
其他题名Application of Synchrotron Radiation X- ray Topography in the Research of Defects and Crystals Growth
蒋建华
2000
发表期刊人工晶体学报
期号S1页码:234
通讯作者蒋建华
其他摘要X射线形貌术是利用X射线在晶体中传播及衍射的动力学原理 ,根据晶体中完美部分和不完美部分衍射衬度的变化和消光规律 ,研究晶体微观结构缺陷的一种有效方法 ,与其他方法相比 ,它的优点是可直观地对较大块的晶体及其器件作非破坏性的整体内部观察。它的缺点是曝光的时间长 ,分辨率没有电镜高。同步辐射光源的使用不仅克服了常规X射线形貌术曝光时间长的缺点 ,也可提高形貌像的分辨率 ,尤其重要的是它为研究材料的结构相变和晶体生长中缺陷的形成、迁移及再结晶等动态变化过程提供了可能 ,从而为X射线形貌术这一古老技术注入了新的活力。北京正负电子对撞机提供的同步辐射已实现电子能量 2 .2GeV、电子束流 1 0 0...
关键词同步辐射 X射线形貌 晶体生长 缺陷
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221791
专题多学科研究中心
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GB/T 7714
蒋建华. 同步辐射X射线形貌术在晶体生长和缺陷研究中的应用[J]. 人工晶体学报,2000(S1):234.
APA 蒋建华.(2000).同步辐射X射线形貌术在晶体生长和缺陷研究中的应用.人工晶体学报(S1),234.
MLA 蒋建华."同步辐射X射线形貌术在晶体生长和缺陷研究中的应用".人工晶体学报 .S1(2000):234.
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