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0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术
其他题名Synchrotron Radiation X-Ray Lithography Technique for 0. 5μm resolution
谢常青; 叶甜春; 孙宝银; 伊福廷
1999
发表期刊微细加工技术
期号3页码:32-34+5
其他摘要报道了用 X 射线母掩模复制子掩模的工艺和用北京同步辐射装置( B S R F)3 B I A 光刻束线获得的 05μm 光刻分辨率的实验结果。
关键词X射线光刻 分辨率 同步辐射 氮化硅薄膜
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221728
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
谢常青,叶甜春,孙宝银,等. 0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术[J]. 微细加工技术,1999(3):32-34+5.
APA 谢常青,叶甜春,孙宝银,&伊福廷.(1999).0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术.微细加工技术(3),32-34+5.
MLA 谢常青,et al."0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术".微细加工技术 .3(1999):32-34+5.
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