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高压及热处理对氮碳薄膜激光诱导荧光效率的影响
其他题名EFFECTS OF HIGH PRESSURE AND THERMAL TREATMENTS ON PHOTOLUMINESCENCE EFFICIENCY OF CNx FILMS
赵菁; 车荣钲; 徐积仁; 康宁; 刘景; 杨洋
1999
发表期刊高压物理学报
期号3页码:173-177
通讯作者赵菁
其他摘要应用激光激发荧光光谱实验对经热处理后及高压条件下的氮碳薄膜荧光光谱进行了测量分析。实验显示,热处理效应和高压效应均导致薄膜荧光效率降低,前者表现为不可恢复,后者为可恢复即卸压后荧光效率的恢复,表明导致荧光光谱效率降低的微观机制不同,为氮碳薄膜荧光模型提供了新的实验证据。
关键词氮碳薄膜 金刚石高压容器 荧光光谱
项目资助者国家自然科学基金
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221702
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
赵菁,车荣钲,徐积仁,等. 高压及热处理对氮碳薄膜激光诱导荧光效率的影响[J]. 高压物理学报,1999(3):173-177.
APA 赵菁,车荣钲,徐积仁,康宁,刘景,&杨洋.(1999).高压及热处理对氮碳薄膜激光诱导荧光效率的影响.高压物理学报(3),173-177.
MLA 赵菁,et al."高压及热处理对氮碳薄膜激光诱导荧光效率的影响".高压物理学报 .3(1999):173-177.
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