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同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用
其他题名SYNCHROTRON RADIATION X-RAY REFLECTION TECHNIQUE AND ITS APPLICATION IN MEASUREMENT OF ATOMIC DEPTH DISTRIBUTION IN δ-DOPED Si CRYSTALS
贾全杰; 姜晓明; 蒋最敏
1998
发表期刊理化检验(物理分册)
期号8页码:3--8
通讯作者贾全杰
其他摘要X射线低角反射实验技术是测定固体材料表层中杂质原子深度分布的有效手段.利用同步辐射X射线反射技术和近年来发展的由反射实验数据逆向求解原子深度分布的分层逼近法,研究了不同温度下分子束外延生长的δ掺杂(Sb)Si晶体样品,成功地测量了样品中几个纳米范围内的Sb原子深度分布.所得结果表明,300℃以下是用分子束外延方法在Si晶体中生长Sb原子δ掺杂结构的合适温度.
关键词X射线反射 同步辐射 分层副近法 δ掺杂
项目资助者国家自然科学基金资助课题(项目编号:19674058)
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221658
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
贾全杰,姜晓明,蒋最敏. 同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用[J]. 理化检验(物理分册),1998(8):3--8.
APA 贾全杰,姜晓明,&蒋最敏.(1998).同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用.理化检验(物理分册)(8),3--8.
MLA 贾全杰,et al."同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用".理化检验(物理分册) .8(1998):3--8.
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