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Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析
其他题名THE INTERFACIAL ANALYSIS OF Mo/SiO2 MULTILAYERS MIRROR FOR SOFT X-RAY
王凤平; 王佩璇; 方正知; 崔明启; 姜晓明; 马宏骥
1997
发表期刊金属学报
期号7页码:737-741
其他摘要用X射线衍射的动力学理论对磁控溅射法制备的Mo/SiO2多层膜低角X射线衍射谱进行拟合,定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度.同时,用Auger电子能谱证实了多层膜成分的周期性以及比较明晰的层界面随样品厚度的增加,界面粗糙度增加.
关键词Mo/SiO_2多层膜 磁控溅射 同步辐射 低角X射线衍射 俄歇电子能谱
项目资助者国家自然科学基金!59471053
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221564
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
王凤平,王佩璇,方正知,等. Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析[J]. 金属学报,1997(7):737-741.
APA 王凤平,王佩璇,方正知,崔明启,姜晓明,&马宏骥.(1997).Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析.金属学报(7),737-741.
MLA 王凤平,et al."Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析".金属学报 .7(1997):737-741.
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