Mo/SiO_2软X射线多层膜的结构研究
王凤平; 王佩璇; 方正知; 崔明启; 王德武
刊名电子显微学报
1997
期号4页码:2
关键词磁控溅射 Mo/SiO_2 周期结构 粗糙度 同步辐射装置 递推公式 结构研究 衍射谱 缓冲层 直流溅射
中文摘要本文用磁控溅射方法制备了几种Mo/SiO2多层膜。在北京同步辐射装置(BSRF)的衍射站上测量了其低角X射线衍射(XRD)谱,并利用基于光学动力学理论的递推公式对低角X射线衍射谱进行了拟合,定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度以及界面粗糙度与层数、层厚的关系。同时用高分辨电子显微镜(HREM)对一样品的截面进行了观察。
项目资助者国家自然科学基金
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221536
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
王凤平,王佩璇,方正知,等. Mo/SiO_2软X射线多层膜的结构研究[J]. 电子显微学报,1997(4):2.
APA 王凤平,王佩璇,方正知,崔明启,&王德武.(1997).Mo/SiO_2软X射线多层膜的结构研究.电子显微学报(4),2.
MLA 王凤平,et al."Mo/SiO_2软X射线多层膜的结构研究".电子显微学报 .4(1997):2.
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