IHEP OpenIR  > 多学科研究中心
同步辐射x射线光刻实验研究
谢常青; 陈梦真; 赵玲莉; 孙宝银; 韩敬东; 朱樟震; 张菊芳
1997
发表期刊半导体技术
期号6页码:2
其他摘要采用侧墙工艺技术研制深亚微米x射线掩模,并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射x射线曝光实验,初步获得了深亚微米光刻图形
关键词同步辐射x射线光刻 x射线掩模 侧墙工艺
项目资助者攀登计划PD930307资助项目
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221529
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
谢常青,陈梦真,赵玲莉,等. 同步辐射x射线光刻实验研究[J]. 半导体技术,1997(6):2.
APA 谢常青.,陈梦真.,赵玲莉.,孙宝银.,韩敬东.,...&张菊芳.(1997).同步辐射x射线光刻实验研究.半导体技术(6),2.
MLA 谢常青,et al."同步辐射x射线光刻实验研究".半导体技术 .6(1997):2.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
3351.pdf(88KB)期刊论文作者接受稿限制开放CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[谢常青]的文章
[陈梦真]的文章
[赵玲莉]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[谢常青]的文章
[陈梦真]的文章
[赵玲莉]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[谢常青]的文章
[陈梦真]的文章
[赵玲莉]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。