多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究
王凤平; 崔明启; 王佩璇; 方正知
刊名金属学报
1996
期号7页码:774-779
关键词多层膜 磁控溅射 低角X射线衍射 界面粗糙度
其他题名STUDY OF MULTILAYER INTERFACE ROUGHNESS BY LOW-ANGLE X-RAY DIFFRACTION
中文摘要对磁控溅射方法制备的W/Si周期多层膜在X射线衍时仪上进行了低角X射线衍射实验,并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度,在对实验谱线的拟合过程中,考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度的影响,并讨论了各个参量对衍射强度影响的程度.
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221486
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
王凤平,崔明启,王佩璇,等. 多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究[J]. 金属学报,1996(7):774-779.
APA 王凤平,崔明启,王佩璇,&方正知.(1996).多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究.金属学报(7),774-779.
MLA 王凤平,et al."多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究".金属学报 .7(1996):774-779.
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