用热激发电流法研究金刚石薄膜中的陷阱
崔聪悟; 王建军; 马星桥; 伍瑜
刊名北京科技大学学报
1996
期号2页码:145-149
关键词金刚石膜 缺陷/热激发电流
其他题名INVESTIGATION ON TRAPS IN MPCVD DIAMOND FILMS BY THERMAL STIMULATED CURRENT MEASUREMENTS
通讯作者崔聪悟
中文摘要对微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)的硅衬底金刚石薄膜,做了在液氮温区注入载流子,升温测其电流-温度关系的实验.观察到as-grown样品有明显的热激发电流峰.重复实验时,峰基本消失.经氢等离子体在~900℃处理2.5h后,再重复实验,该峰又出现.推断热激发电流峰是由硅衬底金刚石薄膜内氢致陷阱中的载流子撤空引起的.这些能级在金刚石禁带中的陷阱是可以通过适当热处理消除的.
项目资助者国家863计划”项目
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221442
专题中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
崔聪悟,王建军,马星桥,等. 用热激发电流法研究金刚石薄膜中的陷阱[J]. 北京科技大学学报,1996(2):145-149.
APA 崔聪悟,王建军,马星桥,&伍瑜.(1996).用热激发电流法研究金刚石薄膜中的陷阱.北京科技大学学报(2),145-149.
MLA 崔聪悟,et al."用热激发电流法研究金刚石薄膜中的陷阱".北京科技大学学报 .2(1996):145-149.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
3118.pdf(292KB)期刊论文作者接受稿开放获取CC BY-NC-SA浏览 请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[崔聪悟]的文章
[王建军]的文章
[马星桥]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[崔聪悟]的文章
[王建军]的文章
[马星桥]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[崔聪悟]的文章
[王建军]的文章
[马星桥]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
文件名: 3118.pdf
格式: Adobe PDF
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。