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X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用
其他题名APPLICATION OF X-RAY STENCIL SILICON MASK IN SYNCHROTRON RADIATION X-RAY DEEP LITHOGRAPHY
孙宝银; 陈梦真; 朱樟震; 伊福廷
1995
发表期刊真空科学与技术
期号3页码:176-178
其他摘要阐述了X射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室X射线光刻装置上,采用本文研制的X射线镂空硅掩模获得胶厚为30~40μm、侧壁很陡、边缘很直的X射线深层光刻胶图形。
关键词镂空硅掩模 X射线 深层光刻 同步辐射
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221436
专题多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
孙宝银,陈梦真,朱樟震,等. X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用[J]. 真空科学与技术,1995(3):176-178.
APA 孙宝银,陈梦真,朱樟震,&伊福廷.(1995).X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用.真空科学与技术(3),176-178.
MLA 孙宝银,et al."X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用".真空科学与技术 .3(1995):176-178.
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