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Application of Combined α-RBS and PIXE Analysis Technology
Xia CH(夏琮璜); Shen DY(沈定予); Li SZ(李硕中); Liu SJ(刘士杰); Wang J(王江); Hu CH(胡朝晖)
1992
发表期刊Rare Metals
期号2页码:98-101
摘要An analysis technique combining RBS with PIXE technology by x-particles incident beam was constructedand applied to analyse light impurities in heavier substrates.It can run in measuring Rutherford backscatteringand X-ray spectra in random and channeling mode,simultaneously.Being used to analyse...
关键词RBS PIXE Channeling mode Ion Implantation GaAs
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221219
专题多学科研究中心
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GB/T 7714
Xia CH,Shen DY,Li SZ,et al. Application of Combined α-RBS and PIXE Analysis Technology[J]. Rare Metals,1992(2):98-101.
APA 夏琮璜,沈定予,李硕中,刘士杰,王江,&胡朝晖.(1992).Application of Combined α-RBS and PIXE Analysis Technology.Rare Metals(2),98-101.
MLA 夏琮璜,et al."Application of Combined α-RBS and PIXE Analysis Technology".Rare Metals .2(1992):98-101.
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