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全反射X射线荧光分析法
刘亚文
1987
发表期刊光谱学与光谱分析
期号4页码:69-73
通讯作者刘亚文
其他摘要一、引言在X射线荧光分析中,激发源发出的初级射线与分析样品相互作用,发生光电效应,而使样品发射出某些特征X射线。除此之外,在样品的内部以及样品的承托物上还会产生弹性散射与非弹性散射。在这些散射过程中将产生大量的散射光子。散射光子的出现,一方面限制了探测器的计数率,从而影响特征X射线谱的收集。另一方面将加大待测X射线谱的本底计数,影响特征谱强度的定量检测。统计学的分析表明,在决定检测限的诸
关键词射线荧光分析 分析样品 非弹性散射 本底计数 反射体 激发源 散射过程 反射技术 制样 样品量
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/220987
专题多学科研究中心
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GB/T 7714
刘亚文. 全反射X射线荧光分析法[J]. 光谱学与光谱分析,1987(4):69-73.
APA 刘亚文.(1987).全反射X射线荧光分析法.光谱学与光谱分析(4),69-73.
MLA 刘亚文."全反射X射线荧光分析法".光谱学与光谱分析 .4(1987):69-73.
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