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自支衬碳薄膜的制备
张英平; 董玉兰; 李五桂
1979
发表期刊核技术
期号2页码:73-75
通讯作者张英平
其他摘要碳薄膜因纯度高、导电、原子序数小和能耐受较大的粒子流轰击而有很多用途。如低能核反应中的穿透靶底、电子显微镜的样品承托膜、串列式静电加速器中的电荷剥离器、束一箔谱学中的激发膜等都常采用碳薄膜。它的优点是可以做得很薄(几μg/cm~2)而无砂眼,对粒子流透明度好;并因对粒子散射小很少影响束流特性。在作穿透靶底用时,因有较好的化学稳定性与热稳定性,可以将很多靶物质蒸发到碳膜的表面上;并由于碳棒纯度高(光谱纯),不易有污染核反应出现。
关键词碳棒 低能核反应 靶物质 谱学 光谱纯 粒子流 碳膜 剥离器 玻璃片 脱膜剂
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/220615
专题多学科研究中心
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GB/T 7714
张英平,董玉兰,李五桂. 自支衬碳薄膜的制备[J]. 核技术,1979(2):73-75.
APA 张英平,董玉兰,&李五桂.(1979).自支衬碳薄膜的制备.核技术(2),73-75.
MLA 张英平,et al."自支衬碳薄膜的制备".核技术 .2(1979):73-75.
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