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轫致辐射X光源初步研究
其他题名Bremsstrahlung mechanism application on mini X-ray source
顾小冯; 罗小为; 戴建枰
2009
发表期刊核技术
期号11页码:806-812
通讯作者顾小冯
其他摘要对高能电子打薄靶和低能电子打厚靶两种不同轫致辐射方式的微型轫致辐射光源进行了研究。推导并比较了两种方式的单位电子光子产生率,给出了提高光子产额的方法。以BFEL直线加速器为平台,利用高能电子薄靶的轫致辐射光进行X光成像实验,研究薄靶对电子束流参数的影响,并对轫致辐射微型X光源的特性进行了讨论。
关键词微型X光源 轫致辐射 光子产额 光子产生率
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/217716
专题加速器中心
推荐引用方式
GB/T 7714
顾小冯,罗小为,戴建枰. 轫致辐射X光源初步研究[J]. 核技术,2009(11):806-812.
APA 顾小冯,罗小为,&戴建枰.(2009).轫致辐射X光源初步研究.核技术(11),806-812.
MLA 顾小冯,et al."轫致辐射X光源初步研究".核技术 .11(2009):806-812.
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