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LIA注入器发射度增长机理研究及其抑制措施
其他题名Mechanism and Control Methods of Emittance Growth for LIA Injector
代志勇; 国智元; 章林文
2004
发表期刊高能物理与核物理
期号9页码:1002-1006
通讯作者代志勇
其他摘要根据直线感应加速器 (LIA)的特点采用了轴对称直流模型 ,结合E .P .Lee的理论导出了发射度增长的微分方程 ,提出了一种直线感应加速器发射度增长的机理 ,根据该机理计算了从均匀分布到高斯分布的演变过程中发射度增长的大小 ,指出直线感应加速器 (LIA)注入器阶段束流发射度增长主要是由于非线性效应导致的束刨面电流密度分布变化引起的 .根据研究结果 ,提出了相应的抑制发射度增长的措施 .
关键词直线感应加速器 轴对称直流束 发射度增长 控制措施
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/217249
专题加速器中心
推荐引用方式
GB/T 7714
代志勇,国智元,章林文. LIA注入器发射度增长机理研究及其抑制措施[J]. 高能物理与核物理,2004(9):1002-1006.
APA 代志勇,国智元,&章林文.(2004).LIA注入器发射度增长机理研究及其抑制措施.高能物理与核物理(9),1002-1006.
MLA 代志勇,et al."LIA注入器发射度增长机理研究及其抑制措施".高能物理与核物理 .9(2004):1002-1006.
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