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Design of magnet and control of the beamemittance for Penning H~- ion source
欧阳华甫; Zhang HS(张华顺)
2008
发表期刊中国物理C
期号8页码:668-672
通讯作者欧阳华甫
摘要The design requirement and principle of the deflection magnet for Magnetron and Penning H- ion source are discussed. It is proved that there exists a maximum emittance for the beam that may be transformed by the magnet into a state with equal Twiss parameters of αr =αy and βr =βy, which is the requi...
关键词H- ion source Magnetron ion source Penning ion source magnetic field gradient index
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/217202
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GB/T 7714
欧阳华甫,Zhang HS. Design of magnet and control of the beamemittance for Penning H~- ion source[J]. 中国物理C,2008(8):668-672.
APA 欧阳华甫,&张华顺.(2008).Design of magnet and control of the beamemittance for Penning H~- ion source.中国物理C(8),668-672.
MLA 欧阳华甫,et al."Design of magnet and control of the beamemittance for Penning H~- ion source".中国物理C .8(2008):668-672.
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