CSNS四极陶瓷真空盒磁控溅射镀TiN膜研究
王梨兵; 董海义; 裴国玺; 杨奇
刊名原子能科学技术
2011
期号1页码:90-93
关键词TiN膜 四极陶瓷真空盒 磁控溅射 绝缘体 长直管道
其他题名TiN Coating of CSNS Alumina Ceramics Vacuum Chambers for Quadrupole Magnets by Magnetron Sputtering
通讯作者王梨兵
中文摘要介绍了中国散裂中子源(CSNS)快循环同步加速器(RCS)中四极陶瓷真空盒内表面镀TiN膜技术与成膜系统装置。采用磁控溅射法,通过在绝缘体长直管道外表面安装金属屏幕罩来提供同轴电场的方法,解决了镀膜均匀性的问题。镀膜样品Ti、N比在0.9~1.1范围内,膜厚为100nm左右,附着力达到要求,总体满足设计指标,完成了CSNS四极陶瓷真空盒样机的镀膜。
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/217184
专题中国科学院高能物理研究所_加速器中心_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
王梨兵,董海义,裴国玺,等. CSNS四极陶瓷真空盒磁控溅射镀TiN膜研究[J]. 原子能科学技术,2011(1):90-93.
APA 王梨兵,董海义,裴国玺,&杨奇.(2011).CSNS四极陶瓷真空盒磁控溅射镀TiN膜研究.原子能科学技术(1),90-93.
MLA 王梨兵,et al."CSNS四极陶瓷真空盒磁控溅射镀TiN膜研究".原子能科学技术 .1(2011):90-93.
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