BEPCII正电子源(英文)
裴国玺; 孙耀霖; 刘晋通; 池云龙; 刘玉成; 刘念宗
刊名高能物理与核物理
2006
期号1页码:66-70
关键词正电子源 磁通压缩器 转换靶 脉冲电源
其他题名BEPCII Positron Source
通讯作者裴国玺
中文摘要BEPCⅡ是一粒子工厂型的正负电子对撞机,为北京正负电子对撞机(BEPC)的改造、升级工程.它对直 线注入器的基本要求是40mA,1.89GeV的正电子柬流,发射度1.6μm,能散度好于±0.5%,保证储存环的注入速 率≥50mA/min,实现TOP OFF注入方式.因为正电子流强与打靶电子束流功率成正比,采用一把新的10A电 子枪来提高打靶电流,采用新加速结构和65MW速调管SLAC5045把目前140MeV的打靶能量提高到240MeV. 正电子源本身也是一非常关键、极其复杂的系统,它包括正电子转换靶室、12kA磁号”脉冲电源、7m长聚焦 节、大功率直流电源和支架等.目前,正电子产生加速器...
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/217096
专题中国科学院高能物理研究所_加速器中心_期刊论文
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GB/T 7714
裴国玺,孙耀霖,刘晋通,等. BEPCII正电子源(英文)[J]. 高能物理与核物理,2006(1):66-70.
APA 裴国玺,孙耀霖,刘晋通,池云龙,刘玉成,&刘念宗.(2006).BEPCII正电子源(英文).高能物理与核物理(1),66-70.
MLA 裴国玺,et al."BEPCII正电子源(英文)".高能物理与核物理 .1(2006):66-70.
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